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江蘇百德特種合金有限公司
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哈氏合金c22密度哈氏合金c22材料化學(xué)成分
HastelloyC-22主要產(chǎn)品有(無縫鋼管,圓鋼,棒料,棒材,板材,鍛件,法蘭,鋼帶,鋼錠,荒管,彎頭三通,無縫管,鋼管,管材,管子,焊管,管件,圓餅,圓環(huán),鍛環(huán),文丘里管,線材,絲材,焊絲,焊條,圓棒,棒子,光棒,黑皮棒料,毛細(xì)管,精軋管,鋼卷,螺栓,閥桿,大小頭,進(jìn)口板材,進(jìn)口焊絲等)
美國牌號:Hastelloy C-22,HC-22,哈氏C22合金,HC-22合金,N06022
物理性能:
密度: 8.69g/cm3
熔點(diǎn): 1357-1399 °C
彈性模量: 205.5N/mm2
熱導(dǎo)率:11.1 W/m-K
硬度:HRC93
熱膨脹系數(shù)( 20 - 100°C): 112.6 μ m/m °C
工作溫度約量: -200 至 +400°C
主要特征:C-22合金具有很好的抗點(diǎn)蝕、縫隙腐蝕和應(yīng)力腐蝕開裂能力。
用途舉例:二氧化硫冷卻塔、煙氣清洗器系統(tǒng)、磺化系統(tǒng)、地?zé)崞?、管式熱交換器等
品種規(guī)格:鍛件、棒材、板材、帶材、環(huán)件、絲材、螺栓、彈簧等協(xié)商供應(yīng),可根據(jù)客戶要求生產(chǎn)
Hastelloy C-22下特性:
Hastelloy C-22合金是全能的鎳鉻鉬鎢合金,比其他的現(xiàn)有的鎳鉻鉬合金擁有更好的總體抗腐蝕性能,包括Hastelloy C-276、C4合金以及625合金。Hastelloy C-22合金有很好的抗點(diǎn)蝕,縫隙腐蝕和應(yīng)力腐蝕開裂能力。它具有的抗氧化水介質(zhì)能力,包括濕氯,硝酸或者含有氯化物離子的氧化性酸的混合酸。同時(shí),Hastelloy C-22合金也有理想的的抵抗過程中遭遇的還原性和氧化性環(huán)境的能力。依靠這種的性能,它能在一些令人頭疼的環(huán)境中使用,或者在多種生產(chǎn)目的工廠中應(yīng)用。Hastelloy C-22合金對各種化工環(huán)境有著異常的抵御能力,包括強(qiáng)氧化性物質(zhì),比如氯化鐵、氯化銅、氯、熱污染溶液(有機(jī)的無機(jī)的),甲酸、乙酸、醋酸酐、海水和鹽溶液等。Hastelloy C-22合金在焊接熱影響區(qū)有抵抗晶界沉淀形成的能力,這樣使它在焊接狀態(tài)下也能適應(yīng)很多種化工過程的應(yīng)用。
Hastelloy C-22 的金相結(jié)構(gòu):
Hastelloy C-22為面心立方晶格結(jié)構(gòu)。
Hastelloy C-22 的性:
Hastelloy C-22合金適用于各種含有氧化和還原性介質(zhì)的化學(xué)流程工業(yè)。較高的鉬、鉻含量使合金能夠耐氯離子的侵蝕,鎢元素也進(jìn)一步提高了其性。Hastelloy C-22是僅有的幾種能夠耐潮濕氯氣、次氯酸鹽以及二氧化氯溶液腐蝕的材料之一,該合金對高濃度的氯化鹽溶液具有的性(如氯化鐵和氯化銅)。
Co-Ni-P三元合金薄膜具有較高的矯頑力、較小的剩磁和優(yōu)良的電磁轉(zhuǎn)換熱性,可用于高密度磁盤等各種磁記錄系統(tǒng)。近年來,對薄膜的可靠性、耐磨性、耐腐蝕性和誤碼特性等的研究已取得較大進(jìn)展。就化學(xué)鍍Co-Ni-P合金工藝對鍍層沉積速率的影響做了較系統(tǒng)研究。余祖孝等分析了化學(xué)鍍Ni-Co-P合金工藝對其鍍層性能的影響。通過正交試驗(yàn)優(yōu)化了化學(xué)鍍Ni-Co-P合金工藝,并研究了熱處理對Ni-Co-P合金鍍層性能的影響。由于鈷的自催化能力比鎳差,鈷含量對鍍層的沉積速率及組織性能有顯著的影響。本工作以45鋼為基體化學(xué)鍍Ni-Co-P三元合金,主要研究Co*與(Co*+Ni*)不同摩爾濃度比對沉積速率及鍍層組織性能的影響。
試驗(yàn)
1.1 基材前處理
基體材料為45鋼, 尺寸:中12mmx5mm。前處理流程:砂紙打磨和機(jī)械拋光→電凈除油→清洗→2號活化液活化→清洗→3號活化液去除碳黑→清洗→化學(xué)鍍Ni-Co-P。電凈除油工藝:25.0g/L NaOH, 21.7g/LNa, CO, , 50.0g/LNa, PO, 2.4g/L NaCl, 電壓12V, 正接; 2號活化液配方及參數(shù):25.0g/L HCl, 140.1g/LNaCl, 電壓12V, 反接; 3號活化液配方及參數(shù):141.2g/LNa, C, H, O, ·2H, O, 94.2g/LH, C。H, O, ·H, 0, 3.0g/LN iCl·6H, O, 電壓12V, 反接.
Ni-Co-P合金鍍層的制備
鍍液中主鹽總離子濃度(Ni*+Co+)為0.1mol/L, 其他組分和條件見表1。